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반도체 회로
반도체 솔루션 전문기업

새로운 솔루션을 찾는 고객들이 첫 번째 만나는 회사

메타솔은 HBM 메모리, 포토닉 디본딩, TGV 기술 등 첨단 반도체 공정 솔루션을 연구·개발하여 미래를 선도합니다.

2021
설립연도
23
보유특허
3
핵심기술 분야

핵심 사업 분야

메타솔은 차세대 반도체 패키징 및 소재 기술을 중심으로 글로벌 시장을 선도합니다.

💎
포토닉 디본딩
IPL(펄스형 백색광) 기반 임시 접합 해제 기술로 차세대 반도체 적층 패키징의 핵심 공정을 지원합니다.
🔬
TGV 기술
유리 관통 전극(Through Glass Via) 기술로 초소형 고집적 반도체 패키지를 실현합니다.
⚡
2차전지
전고체 배터리 및 차세대 에너지 저장 소재 기술 연구를 통해 미래 에너지 시장을 준비합니다.
🧬
소재 엔지니어링
반도체 공정용 고기능성 소재 개발 및 최적화를 통해 품질과 수율을 극대화합니다.

최신 소식

2024.11.15
KIMES 2024 전시회 참가 - 포토닉 디본딩 솔루션 공개
2024.09.03
TGV 기술 특허 취득 - 글로벌 반도체 패키징 시장 진출
2024.06.20
2차전지 소재 연구 과제 선정 - 산업통상자원부 지원

회사소개

미래 반도체 산업을 이끄는 혁신 기업, 메타솔

새로운 솔루션을
찾는 고객의 첫 번째 파트너

메타솔(MetaSOL)은 반도체 첨단 패키징 및 소재 기술 분야의 전문 연구개발 기업입니다. 급변하는 반도체 산업 환경 속에서 고객이 직면한 기술적 과제를 해결하는 최적의 솔루션을 제공합니다.

포토닉 디본딩, TGV(Through Glass Via), 2차전지 소재 등 미래 핵심 기술에 집중적으로 투자하고, 산·학·연 협력을 통해 세계 수준의 기술력을 확보하고 있습니다.

메타솔은 고객과 함께 성장하며, 반도체 산업의 기술 혁신을 선도하는 신뢰할 수 있는 파트너가 되겠습니다.

메타솔 기술

핵심 가치

🔭
미래 지향
10년 앞을 내다보는 기술 로드맵으로 반도체 산업의 미래를 선도합니다.
🤝
고객 중심
고객의 기술적 과제를 우선적으로 이해하고 최적의 솔루션을 제공합니다.
🧪
기술 혁신
끊임없는 연구개발을 통해 세계 최고 수준의 기술력을 추구합니다.
🌍
글로벌 도전
글로벌 파트너십을 통해 세계 시장에서 경쟁력 있는 기업으로 성장합니다.

연혁

메타솔의 기술 혁신 여정

2025
시리즈A 투자 유치
TGV 기술개발 착수
Plating-free Copper Paste Via-Fill 기술 개발 시작
2024
포토닉 디본딩 기술개발 착수
IPL 기반의 포토닉디본딩 장비개발, 소재개발 시작
2023
소부장 (소재, 부품, 장비) 전문기업 확인
한국산업기술기획평가원
2022
정재훈 대표이사 취임
기업부설 연구소 설립
한국산업기술진흥협회
2021
메타솔 주식회사 법인설립
쎄미시스코 로부터 사업 양수도 체결 (Spin-Off)

보유 특허

메타솔의 기술력을 증명하는 지식재산권 포트폴리오

10-2024-0093146
온도 제어 기능을 가지는 광소결 시스템
등록일: 2026.03.30
10-2024-0025622
다층 배선 형성 시스템 및 방법
등록일: 2025.12.19
10-2024-0032401
냉각 에어를 이용하는 광 소결 시스템 및 방법
등록일: 2025.09.03
10-2024-0113580
발열 구조체 및 IPL을 이용한 발열 구조체 제조 방법
등록일: 2025.02.11
10-2023-0110814
광소결에 의한 평판 디스플레이 패널 전극의 리페어 방법 및 시스템
등록일: 2024.08.26
10-2021-0096443
IPL에 의한 구리 전극의 제조 방법
등록일: 2024.01.30
10-2021-0101601
광소결에 의한 평판 디스플레이 패널 전극의 리페어 방법 및 시스템
등록일: 2023.08.23
10-2018-0073668
광 소결 장치(Apparatus for intense pulsed light sintering)
등록일: 2022.04.01
10-2019-0137891
실리카 입자를 포함하는 광소결용 잉크 조성물(Ink composition for flash light sintering comprising silica particles)
등록일: 2021.02.02
10-2016-0164062
수냉각이 가능한 광 소결 장치(Apparatus for intense pulsed light sintering with water colorable)
등록일: 2019.02.22
10-2014-0044894
전도성 구리 복합잉크 및 이를 이용한 광소결 방법(Conductive composite Cu ink and light sintering method using the same)
등록일: 2019.02.07
10-2016-0036147
광소결 장치 및 이를 이용한 도전막 형성 방법(APPARATUS FOR INTENSE PULSED LIGHT SINTERING AND MANUFATURING METHOD OF CONDUCTIVE-FILM USING THE SAME)
등록일: 2017.06.13
10-2016-0036144
광소결 장치(APPARATUS FOR INTENSE PULSED LIGHT SINTERING)
등록일: 2017.04.14
10-2016-0036172
광소결 장치(APPARATUS FOR INTENSE PULSED LIGHT SINTERING)
등록일: 2017.04.14
10-2016-0028646
광소결 장치 및 이를 이용한 도전막 형성 방법(APPARATUS FOR INTENSE PULSED LIGHT SINTERING AND MANUFACTURING METHOD OF CONDUCTIVE-FILM USING THE SAME)
등록일: 2017.02.24
10-2016-0036166
광소결 장치(APPARATUS FOR INTENSE PULSED LIGHT SINTERING)
등록일: 2017.02.02
10-2016-0036175
광소결 장치(APPARATUS FOR INTENSE PULSED LIGHT SINTERING)
등록일: 2017.02.02
10-2013-0007246
전기 전도성 잉크의 확장형 광 소결장치(Enlarged Light Sintering Apparatus of Electro Conductive Ink)
등록일: 2015.01.13
10-2013-0002557
금속 나노입자를 포함하는 전기전도성 잉크 및 이의 광 소결 방법(Electro-conductive ink comprising metal nano-particle and light sintering method of the same)
등록일: 2014.01.06
10-2024-0055932
IPL 광소결을 이용한 기판-리드 부착 방법
등록일:
10-2025-0048900
흄을 차단하면서 시료의 온도 측정이 가능한 광소결 장치 및 이에 있어서 광소결 방법
등록일:
10-2025-0063044
펄스화된 빛을 이용하는 포토닉 디본딩 방법 및 이를 위해 사용되는펄스화된 빛 장치
등록일:
10-2025-0097413
펄스화된 빛을 이용한 반도체 기판 금속화 시스템 및 방법
등록일:

응용기술

메타솔의 혁신적인 반도체 응용기술 분야

메타솔 응용기술 개요

메타솔은 차세대 반도체 패키징 기술의 핵심인 포토닉 디본딩, TGV, 2차전지 소재 기술을 중심으로 연구개발을 수행하고 있습니다.

  • 포토닉 디본딩: IPL(펄스형 백색광) 기반 임시 접합 해제 기술
  • TGV: 유리 기판 관통 전극 형성 기술
  • 2차전지: 전고체 배터리 소재 개발 기술
반도체 기술

포토닉 디본딩 기술

"강렬한 광 에너지를 정밀하게 제어하여, 임시 접합된 웨이퍼와 캐리어 기판을 물리적·열적 손상 없이 분리하는 차세대 핵심 공정 기술입니다. HBM(고대역폭 메모리) 등 초정밀 첨단 패키징 공정의 수율 향상에 필수적인 솔루션입니다."

  • 광 파장 및 출력 최적화를 통한 비접촉식 정밀 분리 공정
  • 저온 공정으로 소자 손상 최소화
  • 다양한 웨이퍼 크기(200mm, 300mm) 대응
  • 고속 처리로 생산성 극대화

TGV (Through Glass Via) 기술

유리 기판에 미세 관통 전극을 형성하여 고집적 반도체 패키지를 구현하는 기술입니다. 우수한 전기적 특성과 열방출 성능으로 차세대 패키징의 핵심 기술로 주목받고 있습니다.

  • 고집적 비아 충진용 Copper 페이스트 이미 뚫려있는 비아 내부 충진(Filling)하는 소재
  • 저유전율 유리 기판 적용으로 신호 손실 최소화
  • 우수한 열방출 특성으로 고성능 패키지 실현
  • 5G/6G 통신, AI 반도체 패키징 적용

2차전지 소재 기술

전고체 배터리를 비롯한 차세대 에너지 저장 시스템에 적용되는 고기능성 소재를 연구·개발합니다. 높은 에너지 밀도와 안전성을 동시에 실현합니다.

  • 고이온전도성 고체전해질 소재 개발
  • 실리콘 음극재 성능 개선 기술
  • 열안정성 향상 소재 개발
  • EV, ESS 대용량 배터리 적용 기술

포토닉 디본딩

IPL(펄스형 백색광) 기반 임시 접합 해제 기술

포토닉 디본딩 기술

"강렬한 광 에너지를 정밀하게 제어하여, 임시 접합된 웨이퍼와 캐리어 기판을 물리적·열적 손상 없이 분리하는 차세대 핵심 공정 기술입니다. HBM(고대역폭 메모리) 등 초정밀 첨단 패키징 공정의 수율 향상에 필수적인 솔루션입니다."

  • 광 파장 및 출력 최적화를 통한 비접촉식 정밀 분리 공정
  • 저온 공정으로 소자 손상 최소화
  • 다양한 웨이퍼 크기(200mm, 300mm) 대응
  • 고속 처리로 생산성 극대화

기술 개요

반도체 첨단 패키징에서는 얇아진 디바이스 웨이퍼를 가공하는 동안 이를 지지하기 위해 캐리어 기판에 임시로 접합(Temporary Bonding)했다가, 후속 공정이 끝난 뒤 다시 분리(Debonding)하는 과정이 필수적입니다. 포토닉 디본딩(Photonic Debonding)은 유리 캐리어를 투과한 펄스형 광대역 광(光) 에너지가 접합층 사이의 광흡수층(Release Layer)에 순간적으로 작용하여, 웨이퍼와 캐리어를 분리하는 기술입니다. 짧은 시간 동안 집중된 광 펄스가 분리층만 선택적으로 반응시키므로, 정밀하고 깨끗한 분리가 가능합니다.

기존 공정 대비 장점

전통적인 디본딩 방식에는 화학 용제로 접착제를 녹이는 방법, 기계적으로 떼어내는 방법, 열을 가해 분리하는 방법이 있습니다. 그러나 강한 화학물질 사용은 환경·안전 부담이 크고, 기계적 박리나 고온 공정은 미세한 소자 구조에 손상을 줄 수 있습니다. 포토닉 디본딩은 상온에 가까운 조건에서 진행되어 소자 손상을 최소화하며, 분리층까지의 초점 거리 편차에 대한 허용도가 높아 휨(Warpage)이 있는 웨이퍼나 20㎛ 이하의 초박형 웨이퍼에도 안정적으로 적용할 수 있습니다.

적용 분야

포토닉 디본딩은 웨이퍼 박막화와 후면(Backside) 공정을 가능하게 하여, 3D TSV(실리콘 관통 전극) 기반 적층 패키징과 팬아웃 웨이퍼 레벨 패키징(FOWLP) 등 이종 소자 집적(Heterogeneous Integration)의 핵심 공정으로 활용됩니다. 이는 HBM(고대역폭 메모리)을 비롯한 차세대 반도체의 고집적·고성능·소형화를 구현하는 데 중요한 역할을 합니다.

TGV 기술

Through Glass Via - 유리 관통 전극 기술

TGV 기술

유리 기판에 미세 관통 전극을 형성하여 고집적 반도체 패키지를 구현하는 기술입니다.

  • 고집적 비아 충진용 Copper 페이스트 이미 뚫려있는 비아 내부 충진(Filling)하는 소재
  • 저유전율 유리 기판 적용으로 신호 손실 최소화
  • 우수한 열방출 특성으로 고성능 패키지 실현
  • 5G/6G 통신, AI 반도체 패키징 적용

기술 개요

TGV(Through Glass Via)는 유리 기판을 수직으로 관통하는 미세 전극을 형성하여, 칩과 칩 또는 칩과 기판 사이를 짧은 경로로 연결하는 인터커넥션 기술입니다. 유리 기판에 미세한 통로를 만든 뒤 구리 등 전도성 물질로 채워 수직 전기 연결을 구현합니다. 이는 실리콘 인터포저에 사용되는 TSV(Through Silicon Via)에 대응하는 유리 기반 기술로, 2.5D·3D 반도체 패키징을 가능하게 하는 핵심 요소입니다.

유리 기판의 강점

유리는 인터포저 소재로서 여러 장점을 가집니다. 표면 평탄도가 매우 우수하고 강성이 높아 대면적 기판 제작에 유리하며, 열팽창계수(CTE)를 조절할 수 있어 칩과의 정합성을 높일 수 있습니다. 또한 전기적 손실이 낮고 유전율이 낮아 고주파 신호 전달에 적합합니다. 이러한 특성 덕분에 유리 인터포저는 기존 실리콘·유기 인터포저의 한계를 보완하는 차세대 대안으로 주목받고 있으며, 글로벌 반도체 기업들이 잇따라 유리 기판 도입을 추진하고 있습니다.

적용 분야

TGV 기반 유리 인터포저는 고대역폭·고집적 연결이 요구되는 분야에서 활용됩니다. AI 반도체와 고성능 컴퓨팅(HPC), 5G·6G 통신용 RF 모듈, 칩렛(Chiplet) 기반 이종 집적, 팬아웃 패널 레벨 패키징(FOPLP) 등이 대표적입니다. 신호 무결성 향상과 전력 전달 안정성, 소형화·고밀도 배선을 동시에 만족시켜야 하는 차세대 반도체 패키지 설계에 적합한 기술입니다.

2차전지

차세대 에너지 저장 소재 기술

2차전지 소재 기술

전고체 배터리를 비롯한 차세대 에너지 저장 시스템에 적용되는 고기능성 소재를 연구·개발합니다.

  • 고이온전도성 고체전해질 소재 개발
  • 실리콘 음극재 성능 개선 기술
  • 열안정성 향상 소재 개발
  • EV, ESS 대용량 배터리 적용 기술

전고체 배터리란

기존 리튬이온 배터리는 양극재·음극재·분리막과 함께 액체 전해질을 사용합니다. 전고체 배터리는 이 액체 전해질을 고체 전해질로 대체한 차세대 2차전지로, 모든 핵심 구성요소가 고체로 이루어집니다. 고체 전해질은 이온의 이동 통로 역할과 분리막 역할을 동시에 수행할 수 있어, 전지 구조를 단순화하고 안정성을 높이는 데 기여합니다.

핵심 장점

전고체 배터리의 가장 큰 강점은 안전성입니다. 전해질이 불연성 고체이므로 외부 충격에 의한 누액 위험이 없고, 열 안정성이 높아 화재·폭발 위험을 크게 낮춥니다. 또한 분리막을 제거한 공간에 양극·음극 활물질을 더 채울 수 있어 에너지 밀도를 높일 수 있으며, 더 넓은 작동 온도 범위에서 안정적으로 동작합니다. 이러한 특성 때문에 전고체 배터리는 리튬이온 배터리의 한계를 넘어설 '꿈의 배터리'로 평가받습니다.

소재 개발 방향

전고체 배터리의 성능은 고체 전해질 소재에 크게 좌우됩니다. 대표적으로 화학적·열적 안정성이 우수한 산화물계 전해질과, 이온 전도도가 높고 성형성이 우수한 황화물계 전해질이 연구되고 있습니다. 메타솔은 고이온전도성 고체전해질, 실리콘 음극재, 열안정성 향상 소재 등 차세대 에너지 저장 시스템에 필요한 핵심 소재를 연구·개발하며, 전기차(EV)와 에너지저장장치(ESS) 등 대용량 응용 분야를 목표로 합니다.

기술 동향

리튬이온 커패시터(LIC)의 부상

최근 에너지 저장 분야에서는 리튬이온 커패시터(LIC, Lithium-Ion Capacitor)가 차세대 기술로 주목받고 있습니다. LIC는 리튬이온 배터리와 슈퍼커패시터(EDLC)의 장점을 결합한 하이브리드 소자로, 배터리에 쓰이는 음극과 커패시터에 쓰이는 양극(활성탄)을 함께 사용합니다. 즉 배터리의 '높은 에너지 저장'과 커패시터의 '빠른 충·방전'이라는 두 특성의 중간 영역을 채우는 기술입니다.

LIC가 주목받는 이유는 각 방식의 약점을 서로 보완하기 때문입니다. 기존 슈퍼커패시터보다 에너지 밀도가 높으면서 자가방전이 적고, 리튬이온 배터리보다 충·방전 사이클 수명이 훨씬 길며(10만 회 이상 수준) 열폭주 위험이 낮습니다. 이러한 특성 덕분에 빠른 응답성과 긴 수명이 동시에 요구되는 전력 보조, 회생 제동, 산업용 백업 전원 등에서 활용이 확대되고 있습니다. 에너지 저장 기술이 단일 솔루션에서 용도별 최적화로 다변화되는 흐름을 보여주는 대표적인 사례입니다.

R&D 개요

메타솔의 연구개발 철학과 방향

기술 혁신을 향한 끊임없는 도전

메타솔은 매출의 상당 부분을 R&D에 재투자하며, 반도체 소재 및 공정 기술의 한계를 지속적으로 확장합니다.

📊
데이터 기반 연구
AI·ML 기반 소재 설계 및 공정 데이터 분석을 통해 연구 효율과 성과를 극대화합니다.

시스템 엔지니어링

반도체 패키징 공정 시스템 설계 및 최적화

메타솔의 시스템 엔지니어링 팀은 포토닉 디본딩, TGV 공정 등 핵심 반도체 패키징 공정의 장비·시스템 설계부터 공정 최적화, 양산 적용까지 전 과정을 담당합니다. 독자적인 광학 설계 기술과 정밀 기구 설계 역량을 바탕으로 세계 수준의 반도체 공정 장비를 개발하고 있습니다.

반도체 패키징 공정은 광학, 기계, 열, 제어 등 여러 분야가 결합된 복합 시스템입니다. 메타솔은 개별 부품이나 단위 공정이 아니라 공정 시스템 전체를 하나의 통합 관점에서 설계하는 시스템 레벨 엔지니어링을 지향합니다. 이를 통해 장비 간 정합성을 높이고, 공정 변수를 통합적으로 제어하여 수율과 생산성을 동시에 끌어올립니다.

시스템 엔지니어링

광학 시스템 설계 (Optical System Design)

메타솔은 포토닉 디본딩 공정에 필요한 광학계를 자체적으로 설계·구현합니다. 파장 선택, 빔 셰이핑(Beam Shaping), 광 균일도 제어를 통해 웨이퍼 전면에 걸쳐 균일한 에너지 분포를 구현하며, 이는 소자 손상 없이 정밀한 임시 접합 해제를 가능하게 하는 핵심 기술입니다. 광학계 시뮬레이션과 실측 검증을 반복하여 공정 조건별 최적 설계를 도출합니다.

정밀 기구 설계 및 웨이퍼 핸들링

200mm·300mm 등 다양한 웨이퍼 크기에 대응하는 정밀 스테이지와 척(Chuck) 설계를 통해 미세 정렬 오차를 최소화합니다. 고속·고정밀 얼라인먼트 메커니즘과 진동·열변형을 억제하는 구조 설계로 공정 안정성을 확보하며, 팹(Fab) 내 자동화 설비(EFEM, 반송 로봇 등)와의 연동을 고려한 설계로 양산 라인 적용성을 높였습니다.

공정 통합 및 실시간 제어 시스템

광학·기계·열·제어 등 개별 서브시스템을 하나의 통합 공정 장비로 구현하기 위해, 메타솔은 실시간 모니터링과 피드백 제어 시스템을 자체 개발합니다. 공정 변수(에너지, 온도, 얼라인먼트 등)를 통합적으로 수집·제어하여 공정 재현성을 높이고, 레시피 관리와 데이터 로깅을 통해 양산 현장에서의 수율 분석과 지속적인 공정 개선을 지원합니다.

소재 엔지니어링

반도체 공정용 기능성 소재 연구개발

메타솔의 소재 엔지니어링 팀은 반도체 패키징 공정에 사용되는 접착 소재, 열계면 소재, 절연 소재, 전해질 소재 등 다양한 기능성 소재를 연구·개발합니다. 소재 물성 분석, 배합 최적화, 양산 공정 적용을 위한 신뢰성 평가까지 체계적인 소재 개발 프로세스를 운영합니다.

첨단 반도체 패키징의 성능과 신뢰성은 소재의 물성에 크게 좌우됩니다. 임시 접합·분리 공정용 접착 소재는 공정 중 견고하게 지지하면서도 손상 없이 분리되어야 하고, 열계면 소재는 발열을 효율적으로 방출해야 하며, 전해질 소재는 높은 이온 전도도와 안정성을 동시에 갖추어야 합니다. 메타솔은 이러한 까다로운 요구 조건을 충족하기 위해 소재 설계부터 합성, 물성 평가, 공정 검증에 이르는 전 주기를 자체 역량으로 수행합니다.

소재 엔지니어링

전도성 잉크 · 페이스트 (Conductive Ink & Paste)

메타솔은 구리(Cu)와 은(Ag) 기반의 전도성 잉크·페이스트를 자체 개발·공급합니다. 핵심 경쟁력은 단순한 소재 공급에 그치지 않고, 인쇄 후 IPL(광소결, Intense Pulsed Light) 또는 열소결(Thermal Sintering) 공정을 거쳐 우수한 전기전도도를 안정적으로 확보하는 데 있습니다. 소재의 조성과 소결 공정 조건을 함께 최적화하여, 고객의 공정 환경에서 요구되는 전도 특성을 구현합니다.

점도 · 인쇄 방식별 라인업

메타솔은 인쇄 공정과 점도 특성에 맞춰 다양한 잉크·페이스트 제품군을 보유하고 있습니다. 저점도 잉크는 EHD(전기수력학, Electrohydrodynamic) 방식에 적합하여 미세 패턴의 정밀 인쇄가 가능하며, OLED 디스플레이 제조 공정과 같은 고정밀 응용 분야에 활용됩니다. 고점도 잉크·페이스트는 공압 디스펜싱(Pneumatic Dispensing, 압축 공기로 토출하는 방식)에 적합하여 두껍고 안정적인 패턴 형성에 유리합니다. 이 외에도 Screen Printing(스크린 인쇄)용 페이스트, Bar Coater·Blading(바 코팅) 방식 인쇄용 잉크·페이스트를 모두 취급하여, 고객의 인쇄 장비와 공정에 맞는 최적의 소재를 제공합니다.

반도체 패키징용 특화 소재

전도성 잉크·페이스트 외에도, 메타솔은 첨단 반도체 패키징 공정에 특화된 소재를 제품군으로 보유하고 있습니다. IPL(Photonic) 본딩·디본딩 소재는 Cu·Ag와 같은 금속을 포함하지 않는 광반응형 소재로, 광 에너지에 의한 임시 접합과 손상 없는 분리를 구현합니다. 또한 TGV(유리 관통 전극, Through Glass Via) 공정을 위한 Cu 시드층(Seed Layer) 형성용 소재와 비아 충전(Hole Filling)용 페이스트를 실제 공정에 적용하고 있어, 소재부터 공정까지 아우르는 통합 솔루션을 제공합니다.

인재채용

메타솔과 함께 반도체 기술의 미래를 만들어 나갈 인재를 찾습니다

함께 미래를 만들어 가는 메타솔

메타솔은 반도체 기술 혁신을 이끄는 구성원 모두가 각자의 전문성을 발휘하고 성장할 수 있는 환경을 만들어 나가고 있습니다. 첨단 기술 분야에 도전하는 열정적인 인재를 환영합니다.

왜 메타솔인가

🔬
최첨단 기술
반도체 첨단 패키징·소재 기술을 직접 다룹니다.
📈
성장하는 환경
세미나·기술교육을 적극 지원해 함께 성장합니다.
🤝
함께 만드는 팀
수평적으로 소통하며 도전을 환영합니다.
2021
설립연도
23
보유특허
3
핵심기술 분야
메타솔과 함께하시겠어요?
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도전하는 인재
새로운 기술에 도전하고, 실패를 두려워하지 않으며 끊임없이 성장하는 인재
🤝
협력하는 인재
팀과 함께 목표를 달성하고, 다양한 의견을 존중하며 시너지를 창출하는 인재
💡
창의적인 인재
기존의 틀을 넘어 창의적인 사고로 문제를 해결하는 혁신적인 인재
📚
전문성 있는 인재
자신의 분야에서 깊은 전문성을 쌓고 지속적으로 역량을 개발하는 인재
💰
성과급
경영성과에 따른 인센티브 지급
🏥
의료비 지원
본인 및 가족 의료비 지원
📖
교육 지원
직무 교육 및 자격증 취득 비용 지원
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체육시설
헬스케어 및 체육시설 이용 지원
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경조사 지원
결혼, 출산, 장례 등 경조사비 지급
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주거지원
사택 및 주거비 일부 지원
Software (UI) 개발자
경력 2년 이상 · 정규직 · 경기수원
채용중
소재 연구원 (포토닉디본딩, TGV 관련)
경력 3년 이상 · 정규직 · 경기수원
채용중

채용 문의: metasol@metasol.co.kr

인재상

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복리후생

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경력 2년 이상 · 정규직 · 경기수원
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소재 연구원 (포토닉디본딩, TGV 관련)
경력 3년 이상 · 정규직 · 경기수원
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